DCS在製氫工藝中的使用之一一、 工藝介紹 變壓吸附提純（ A）是製氫工藝的主要步驟之一。 A的主要目的是要將氫氣從雜質氣體中分離出來。因為雜質氣體在高壓下可以被吸附劑吸附，在低壓下釋放；而氫氣無論在高壓下還是低壓下都不能被吸附劑吸附。利用這個原理，將原料氣體升壓，使雜質氣體吸附，分離出氫氣，再降壓，釋放雜質氣體，使吸附劑再生。如此循環，就可以不斷的從混合氣體中分離出氫氣了。 二、 裝置介紹 為了配合其它設備的工作時序，本係統共用了4套相同吸附裝置並行使用。利用計算機係統可以合理安排4套吸附裝置的進料，吸附，分離，排尾氣等工作；統籌安排各裝置的工作情況，使效率最優化；控製壓力，氣體流動速度；檢測關鍵工作點；對信號檢測單元的傳感器故障進行檢測處理。 三、 係統配置 本係統共有4套同樣的裝置配合同時使用。整套裝置共有48點AI，35點AO，68點 DI，56點DO，15點PTD；DCS用TDC-3000，控製器用HPM，T ；用怡貝的YB2000係列安全柵作隔離和本安防爆。 四、 係統實現 1、 對進料氣流量，進料壓力，罐的超壓排空等處，采用了單回路PID調節。對進料罐液位控製采用了雙限比較的控製方式，使液位保持在一定的範圍中。 2、 對吸附劑再生過程中的順放，逆放，衝洗的氣流量控製，采用了，參數設定的方式。即可以通過在參數畫麵上設置順放，逆放，衝洗的上升斜率控製該氣體的流速。 3、 采用Wi T人機界麵，實時模擬顯示閥門的關啟，壓力，液位，流量的情況，實時反映報警點狀況。 4、 利用HM對過程數據進行記錄。 五、 係統運行 該係統投入運行至今，運行狀況良好，效率也有所提高。